特长
·可以自动连续高温处理注入

·1价离子可注入350keV，2价离子可注入700keV（可选择1价离子可注入430keV，2价离子可支持860keV）

·在双端站实现高吞吐量（A系4“高温ESC/B系3”高温ESC、A系6“高温ESC/B系6”常温ESC等，可根据客户的要求构建规格）

·可以进行链条注入，减轻操作员的负荷

·小型设计

·从试作到量产可以广泛对应

产品特性：
• 27.12MHz高密度等离子制程

• SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜

• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能

• 可对应有机EL（OLED）的低温成膜用heater

• 使用Tray可搬送多种基板尺寸

• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

产品应用：
• 功率器件

• LED、LD、高速device等化合物相关

• 有机EL（OLED）开发

• 太阳电池开发

产品特性：
• 通过利用常规过程数据和专有技术重新设计了易用性
• 通过在负载锁定室中安装暗盒机构（可选）来提高生产率
• zui大基板传送尺寸为Φ300mm（在中心Φ200mm处保证了厚度分布）。
• 支持堆叠/同时溅射多个阴极
• 通过触摸屏和配方输入自动处理，节省了人工
• 可以记录数据

产品应用：
• 电极成膜/多层电极及同时成膜应用
• 形成狄登膜，绝缘膜，钝化膜，保护膜等
• 用于电子零件和小规模生产的研发

特长
·通过磁场辅助，可以产生比其他ICP方式低压力、低电子温度、高密度等离子体，从离子性蚀刻到自由基性蚀刻，可以进行宽范围的等离子体控制，因此可以对应于作为开发tool的多用过程。

·搭载了防止RF投入窗的沉积物附着的“Star电极”。另外，具有加热功能，重视再现性和稳定性的装置概念。

·实现作为高可靠性输送机器人、装置构造简单、维护简单等研究开发Tool的可靠性。

·还可以追加丰富的可选功能和暗盒室。

·面向批量生产线，推出了由同一个Chamber构成的支持多个Chamber的NE-5700、NE-7700。

用途
·化合物材料（LED、LD、高频器件和功率器件）。

·电极加工、金属布线、有机膜、陶瓷等加工。

·用于加工铁电体、贵金属、磁性膜等难蚀刻材料。

·纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器。

·生物芯片、微流体装置、光子晶体等。

离子注入装置SOPHI-400可以支持Max2400KeV的高能量离子注入装置。
特长
·单叶式

·支持稀薄Wafer

·平行光束

用途
·功率器件等薄型基板工艺、IGBT工艺

产品简介：
它是一种多室型溅射装置，可以配备多个处理室（*多3个腔室200E，*多5个腔室200J和*多7个腔室200）

产品特性：
• 可运输Φ200mm板
• 作为处理室的各种模块的阵容
• 介电模块
• 高温成膜模块
• 精密分配模块
• 蚀刻模块

产品应用：
• 电子零件
• 微机电系统
• 动力装置
• 发光二极管

产品特性：

• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜

• 镀膜精度高,可达10E-10m

• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强

• 镀膜的均匀性好,重复性优异

• 配置离子源进行表面处理

• 配置热阻蒸发,省材料

• 上位通信,材料扫描功能

• C2～12inch,不定型片,方片蒸发

产品应用：

• 功率器件

• LED

• 光通信/传感器

• LD

• 高校及研究所等

产品简介：
研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科开创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。。

产品特性：
NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

• 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工，在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能

• 石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀（100μ m以上）

• 可实现高速刻蚀（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）

• 可追加cassette室

产品应用：
• 光学器件（光衍射格子、変调器、光开关等等）、凹凸型微透镜

• 流体路径作成或光子学结晶

产品特性：

• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜

• 镀膜精度高,可达10E-10m

• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强

• 镀膜的均匀性好,重复性优异

• 配置离子源进行表面处理

• .配置热阻蒸发,省材料

• 上位通信,材料扫描功能

• 2～12inch,不定型片,方片蒸发

产品特性：

• 功率器件

• LED

• 光通信/传感器

• LD

• 高校及研究所等